公司擁有齊全的納米系列壓印膠材料，熱壓型納米壓印膠、熱塑型納米壓印膠、紫外光固化型納米壓印膠、紫外光固化納米壓印和光刻兩用膠、舉離型傳遞層材料、刻蝕型傳遞層材料、各種與納米壓印技術相關的化學藥品，如模板防粘劑、基片增粘劑等。適用于Obducat，Suss，HP，EVG等多種型號的納米壓印設備。
技術參數：
| IPNR-T1000 | Thermal plastic nanoimprint resist 熱塑型納米壓印膠 |
| IPNR-T2000 | Thermal curable nanoimprint resist 熱固化型納米壓印膠 |
| IPNR-PC1000 | Photo-curable nanoimprint resist (Free radical initiation) 光固化型納米壓印膠（自由基引發） |
| IPNR-PC2000 |
Photo-curable nanoimprint resist (cation intiation) 光固化型納米壓印膠（陽離子引發） |
| IPNR-UL1000 | Under-layer polymer for lift off process 舉離型傳遞層材料 |
| IPNR-UL2000 | Under-layer polymer etching mask process 刻蝕型傳遞層材料 |
| IPNR-UPM | Quick mold fabrication material 快速模板制作材料 |
| IPNR-AP | Chlorosilane based adhesion promoter 氯硅烷增粘劑 |
同時還能能夠根據不同的模板提供相應的防粘試劑。