納米壓印的技術與工藝特點，獨創性地設計和制備工作于低真空環境下，結合正負壓可控調節并利用壓縮空氣作為壓印驅動力的，通過壓力傳導裝置、緩沖與勻壓、壓力調節控制裝置等手段實現平穩可靠可控的壓印過程，借助于多種靈活的自動調節裝置的巧妙設計與運用，實現壓印中的自動找平調控，以保證模板納米圖案均勻精確的大面積復制轉移。

技術參數：

YPL-NIL-SI400納米壓印系統： 

溫度范圍從室溫到350攝氏度； 
壓力范圍從0到20個PSI（在4英寸晶元上）； 
紫外曝光系統； 
真空范圍從1個標準大氣壓到0.1帕； 
水冷系統； 
樣品尺寸直徑最大4英寸； 
PLC遠程控制，帶觸摸屏； 
手動裝載樣品和模板； 
自帶機器控制軟件； 
在軟件控制下可實現自動增加和釋放壓力； 
可定制更大樣品尺寸或更大壓力系統的納米壓印機。 

YPL-NIL-SI400 NANOIMPRINT SYSTEM 
*Thermal Imprinter
Temperature range of R.T. to 350℃ 
Pressure range of 0 to 20 atm 
*UV exposure system 
*Vacuum range of 1atm to 10-1 Pa 
* Sealed Bellows 
*Wafer/Mask Holders: maximum 4 inch dia. Samples: Smart Sample Holder for 
irregular shaped samples and piece parts. 
*Control electronics 
*PLC control and Touch Screen 
*Manual loading and unloading of wafers and masks 
*Proprietary Machine Control Software 
Including (A) SI400 nanoimprint system (B) training, Warranty, other, and (C) Options

主要特點：

該納米壓印機利用紫外曝光或者熱壓固化實現壓印圖案在壓印高分子膠層中的復制，并通過各項功能與過程參量的優化與篩選，通過遠程PLC控制系統結合觸摸屏單元，實現納米壓印全過程的實時監控與全自動化控制。