膜厚測(cè)試儀利用螢光X射線得到物質(zhì)中的元素信息(組成和鍍層厚度)的螢光X射線法原理。和螢光X射線分析裝置一樣被使用的X射線衍射裝置是利用散亂X射線得到物質(zhì)的結(jié)晶信息(構(gòu)造)。而透過(guò)X射線多用于拍攝醫(yī)學(xué)透視照片。另外也用于機(jī)場(chǎng)的貨物檢查。象這樣根據(jù)想得到的物質(zhì)信息而定X射線的種類。
X射線的能量穿過(guò)金屬鍍層的同時(shí)，金屬元素其電子會(huì)反射其穩(wěn)定的能量波譜。通過(guò)這樣的原理，我們?cè)O(shè)計(jì)出：膜厚測(cè)試儀也可稱為膜厚測(cè)量?jī)x，又稱金屬涂鍍層厚度測(cè)量?jī)x，其不同之處為其即是薄膜厚度測(cè)試儀，也是薄膜表層金屬元素分析儀，因響應(yīng)全球環(huán)保工藝準(zhǔn)則，故目前市場(chǎng)上最普遍使用的都是無(wú)損薄膜X射線熒光鍍層測(cè)厚儀。
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