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1) 陰極電流電流效率高，可達22-26%
2) 可使用電流密度高達60安培/平方分米以上，沉積速度因此極大提高
與其它的混合催化劑鍍鉻工藝不同，RC-25不含氟化物，不會浸蝕工件的低電流區
鍍層的顯微硬度達1000-1100KHN100鍍層的微裂紋數可達1000條/英寸，防腐蝕能力因而提高
鍍層平滑，細致光亮
鍍層厚度均勻，減少高電流密度之過厚沉積
不會浸蝕鉛錫陽極，無需使用特殊陽陰極材料
前處理流程、陽極、鍍槽等均與一般傳統鍍鉻工藝一樣
2.鍍液組成及操作條件：
鍍液組成及工藝條件 標準開缸 適用范圍
鉻酐 240克/升 225-275克/升
純*** 2.7克/升 2.5-4.0克/升
RC-25K開缸劑 20毫升/升 10-30毫升/升
陰極電流密度 60安培/平方分米 30-75安培/平方分米
陽極電流密度 30安培/平方分米 15-35安培/平方分米
工作溫度 58℃ 50-60℃
