ERS2000系列納米研磨分散乳化機型號

研磨乳化機是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為，然后在乳化頭上面加配了研磨乳化機磨頭，使物料可以先經(jīng)過研磨乳化機細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。磨頭下面的研磨乳化機可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。

7890/13789RPM 可以通過變頻調(diào)速通過皮帶加速 我們軸承可以承受140000RPM（轉(zhuǎn)速是他們的3-4倍，研磨的力度也是他們的3-4倍，這樣研磨的細度更小）。

IKN研磨乳化機結(jié)構(gòu)：三道磨碎區(qū)，為粗磨碎區(qū)，二級為細磨碎區(qū)，三級為超微磨碎區(qū)。雖然都是三級結(jié)構(gòu)，但是他們的設計不同理念不同，形狀及齒列的結(jié)構(gòu)。                   

納米研磨乳化機特高精度（8SF）均質(zhì)頭：主要用于擠壓、催化、加快溶解以及要求特高精度的粉碎。特別適合于微乳化和精細懸浮，可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經(jīng)分布更窄。

特別應用于:疫苗，細胞破碎，膠體溶液，金屬氧化物懸浮液，墨水，印刷涂料，色素混合等等。主要針對低粘度范圍的物料，也可以和一個喂料泵相連。

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下，機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的，因而它對制造出產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

ERS2000系列納米研磨分散乳化機型號

CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型研磨乳化機腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨分散機的特點：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當物料經(jīng)過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設備其它參數(shù):

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ電機選配件： PTC 熱保護、降噪型研磨分散機材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器